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7nm光刻机终于达到量产水准:Intel/三星狂砸钱抢购

作者:admin      发布日期:2019-12-09   点击:

­  半导体进入7nm节点,最核心的技术之一就是EUV(极紫外)光刻,然而,设备仅仅来自荷兰ASML(阿斯麦)一家。

­  今年,ASML最多可以生产12台EUV光刻机(NXE:3400B),单台价格超过1亿欧元,媲美一架美军F35战机。可是,ASML预计,3季度的营收将继续上涨25%。

­  原来,3400B积压的订单数量已经超过27台,Intel、台积电和三星前不久刚刚加买了8台,不过,此前未发出/生产的货品已经多数来自Intel,可见巨头的既看重又着急。

­  好消息是,在7月中旬的半导体设备展上,ASML宣布,公司已经达成了最重要且长期难以突破的里程碑:250瓦的EUV光源。

­  光源功率(source power)──也就是传送到扫描机以实现晶圆曝光的EUV光子(photon)数量之量测值──直接等同于生产力,芯片制造商一直以来都坚持250瓦的光源功率是达成每小时125片晶圆(WPH)生产量的必要条件,即production-ready。

­  早在2007年,AMD就预言,2012到2013年将是EUV技术量产的开端,但这些年正是因为光源功率不达标,进度十分缓慢,2012年的实际指标仅仅是25W,良率低的可怜。

­  虽然3400B大部分被Intel买走,但巨头却对何时导入量产三缄其口。

­  最新消息显示,GF和台积电决定先引入DUV(深紫外光刻)作为7nm第一代,第二代再上EUV。



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